靜電卡盤(pán)/加熱爐/加熱臺(tái)
靜電吸盤(pán)，又稱(chēng)靜電卡盤(pán)（ESC, E—Chuck），是一種利用靜電吸附原理加持固定被吸附物的夾具，并且可以通過(guò)背吹氣體來(lái)控制晶圓表面溫度的設(shè)備，適用于真空和等離子體環(huán)境，主要作用是用于吸附超潔凈薄片(如硅片)，并使吸附物保持較好的平坦度，可以抑制吸附物在工藝中的變形，并能夠調(diào)節(jié)吸附物的溫度。
適用產(chǎn)品：TC Wafer晶圓測(cè)溫系統(tǒng)、RTD Wafer晶圓測(cè)溫系統(tǒng)
